- ARUAL

Поиск
Перейти к контенту

Главное меню:

UVOH 150 / UVOH 300 - универсальная система, предназначенная для очистки и процессов удаления непроявленного фоторезиста для широкого диапазона применений в полупроводниковой промышленности, электронике и оптике. Взаимодействие поверхности с высоко - интенсивной УФ радиацией и Озоном обеспечивают  освобождение поверхности от углерода.
Настольная система, совместимая с чистой комнатой класса 10, состоит из герметичной камеры. Размещение пластин или на нагреваемом столике или на кварцевых дорожках, для минимизации контакта, в зависимости от применения. Держатель пластин размещен в линейной системе перемещения, для облегчения процессов ручной загрузки и выгрузки.
Продолжительность обработки устанавливается при  помощи электронного таймера. Температура подложки может быть дополнительно выбрана в диапазоне от 20 до 250°C. Поток кислорода может быть отрегулирован до 1,0 slm. Линия вытяжки содержит катализатор озона для минимизации экологического загрязнения.

Применение
·         Заключительная очистка стеклянных и керамических частей перед процессами напыления/осаждения тонких пленок
·         Заключительная очистка контактных площадок до процессов термокомпрессионной сварки.
·         Удаление фоторезиста и не проявленного фоторезиста
·         Сушка и отверждение фоторезиста
·         Очистка подложек до оксидирования и эпитаксиальных процессов.
·         И т.д.
Опции:
Нагревательный столик
    Температура подложек:                     25 ... 200°C
    Равномерность температуры:           < ± 3K



UVOH 150
UVOH 300
Размер пластин max.:
160 мм x 160 мм x 10 мм
300 мм x 300 мм x 10 мм
Интенсивность излучения:
> 50 mW/cm2 
Время излучения:
1 s ... 99 min 59 sec
Газ:
O2 gas line 1/4" VCR® with Rotameter 0,1 ... 1,0 slm, max.2,5 bar
Выброс:
2" diameter ( exhaust with 100 cfm required)
Питание:
220V AC, 50/60 Hz, 1000 W
220V AC, 50/60 Hz, 1500 W
Размеры:
     ШxВxГ
520 мм x 300 мм x 420 мм
700 мм x 300 мм x 600 мм
     Вес
max. 38 кг
max. 50 кг
 
Copyright 2016. All rights reserved.
Назад к содержимому | Назад к главному меню