- ARUAL

Поиск
Перейти к контенту

Главное меню:

ANNEALSYS (Франция) - производитель высококачественных систем для быстрых термических процессов (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрого термического отжига (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрого термического окисления (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химического осаждения из паровой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD, LPCVD).
Область применения систем: кремний (Si), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д.
Использование ультрасовременной системы прямого впрыска жидкости (Direct Liquid Injection - DLI) позволяет разрабатывать и получать новые материалы с использованием новых химических исходных веществ (прекурсоров)
на установках проведения CVD процессов.


Лабораторная установка осаждения металлоорганических соединений из паровой фазы MOCVD
MC-050

Специально разработанная система проведения MOCVD процессов на пластинах до 2-ух дюймов для исследовательских целей

MC-050 позволяет проводить процесс гетороэпитаксии оксидов нитридов металлов III-V, II-VI на пластинах различных видов методом MOCVD с использованием твердых и жидких металлоорганических прекурсоров.
Система MC-050 может оснащаться системой прямого впрыска из аэрозольного аппарата позволяющего получать широкий круг прекурсоров для разработки новых материалов.
Инфракрасная лампа используется для обеспечения процессов in-situ отжига в камере для осаждения.




Подробнее




Исследовательская MOCVD установка для 4-х дюймовых пластин
MC-100

Универсальная MOCVD установка MC100 - установка с холодными стенками для проведения MOCVD процессов специально разработана для проведения разработок и исследований.

Установка MC100 позволяет проводить процесс гетороэпитаксии оксидов на монокристаллических пластинах (таких как YBCO/LAO, STO/MgO, MxOy/LAO,…) при помощи процессов MOCVD с использованием большого числа твердых, жидких металлоорганических прекурсоров с использованием технологии прямого впрыска жидкости (Direct Liquid Injection.)
В зависимости от применения, установка MC100 может быть снабжена различными системами впрыска и вакуумным оборудованием.



Подробнее



Установка MOCVD для 8-х дюймовых пластин
MC-200

Универсальная MOCVD установка MC200 - установка с термоконтролируемыми стенками для проведения MOCVD процессов специально разработана для удовлетворения требования разработок и исследований.

Опционально, система может комплектоваться блоком емкостной плазмы, позволяющая проводить PE-MOCVD процессы для снижения температуры осаждения.
Использование технологии прямого впрыска позволяет использовать широкий диапазон прекурсоров для разработки новых материалов.
Перчаточный бокс и загрузочный шлюз также доступны как опция.




Подробнее



 
Copyright 2016. All rights reserved.
Назад к содержимому | Назад к главному меню